北京懷柔實(shí)驗室soc 2025年第二批機電設備采購項目中標結果公告
發(fā)布時(shí)間：2025-10-17
項目名稱(chēng)：北京懷柔實(shí)驗室soc 2025年第二批機電設備采購項目
項目編號：1495-254thhrlab03
招標范圍：磁控濺射儀作為核心工藝裝備，將支撐超順磁tmr材料的關(guān)鍵功能層制備與膜堆結構調控，需具備單濺射腔多靶位高精度切換能力（≥12個(gè)靶位）、優(yōu)異的膜厚均勻性（≤1%，1sigma）、超高薄膜沉積精度（0.01nm），優(yōu)于10-8 torr的極限真空度、穩定的射頻與直流濺射源、可控的成分調配系統以及低粒子污染的沉積環(huán)境，以實(shí)現膜層結構的高一致性與批次重復性，為高精度傳感芯片的大規模開(kāi)發(fā)和薄膜工藝優(yōu)化提供堅實(shí)支撐。
******有限公司
招標人：北京懷柔實(shí)驗室
開(kāi)標時(shí)間：2025-10-11 09:30
公示時(shí)間：2025-10-13 11:48 - 2025-10-16 17:00
中標結果公告時(shí)間：2025-10-17 15:27
******集團
制造商：singulus technologies ag
制造商國家或地區：德國
發(fā)布時(shí)間：2025-10-17
項目名稱(chēng)：北京懷柔實(shí)驗室soc 2025年第二批機電設備采購項目
項目編號：1495-254thhrlab03
招標范圍：磁控濺射儀作為核心工藝裝備，將支撐超順磁tmr材料的關(guān)鍵功能層制備與膜堆結構調控，需具備單濺射腔多靶位高精度切換能力（≥12個(gè)靶位）、優(yōu)異的膜厚均勻性（≤1%，1sigma）、超高薄膜沉積精度（0.01nm），優(yōu)于10-8 torr的極限真空度、穩定的射頻與直流濺射源、可控的成分調配系統以及低粒子污染的沉積環(huán)境，以實(shí)現膜層結構的高一致性與批次重復性，為高精度傳感芯片的大規模開(kāi)發(fā)和薄膜工藝優(yōu)化提供堅實(shí)支撐。
******有限公司
招標人：北京懷柔實(shí)驗室
開(kāi)標時(shí)間：2025-10-11 09:30
公示時(shí)間：2025-10-13 11:48 - 2025-10-16 17:00
中標結果公告時(shí)間：2025-10-17 15:27
******集團
制造商：singulus technologies ag
制造商國家或地區：德國
